Equipe de brasileiros obtém os 2º e 4º lugares no concurso internacional NanoArt 2009
São Carlos
Pesquisadores brasileiros vencem a quarta edição da exposição online NanoArt 2009, competição organizada pelo professor Cris Orfescu, da Universidade de Nova Iorque. Os brasileiros premiados fazem parte do Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia dos Materiais em Nanotecnologia (INCTMN), coordenado pelo professor Elson Longo, do Laboratório Interdisciplinar de Eletroquímica e Cerâmica (LINK http://www.liec.ufscar.br/) (Liec) da UFSCar, o professor Edson Roberto Leite, do Departamento de Química e também do Liec da Universidade.
O concurso NanoArt 2009 reuniu 154 imagens de 48 participantes, oriundos de 16 países e, no total, foram expostas 15 imagens de Nanoarte elaboradas pelos técnicos do INCTMN Rorivaldo Camargo; Ricardo Tranquilin; e Daniela Caceta. Dentre essas imagens, foram selecionadas duas que deram à equipe do Brasil os 2º e 4º lugares no concurso internacional.
A Nanoarte é uma expressão artística recente, oriunda da nanotecnologia, que possibilita a criação de imagens de materiais em nanoescala, isto é, com dimensão menor que 100 nanômetros que são obtidas por intermédio de microscópios eletrônicos de alta precisão. Dessa forma, a utilização de ciência e arte é capaz de transformar sistemas extremamente complexos em formas simples e proporcionar um melhor entendimento das origens dos materiais.
As imagens vencedoras serão expostas na NanoArt Festival Stuttgart, na Alemanha, e no International Festival of NanoArt - Kotkan, na Finlândia. Os trabalhos premiados foram desenvolvidos pelo Instituto com a participação dos docentes e estudantes da UFSCar e da Unesp, campus Araraquara.
Os trabalhos premiados na NanoArt 2009 podem ser vistos pelo site http://nanoart21.org/.
27/04/2010
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